Method for Surface Treatment of Aluminum Plasma Chamber Liner Comprising Chemical Polishing and Anodizing

• Main Author: LIM, CHUN YOUNG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 09.01.2024
• Subjects: ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL; ANIMAL AND VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES AND WAXES; APPARATUS THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CANDLES; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; CLEANING OR DEGREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICALMETHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DETERGENT COMPOSITIONS; DETERGENTS; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; FATTY ACIDS THEREFROM; GRINDING; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS; RECOVERY OF GLYCEROL; RESIN SOAPS; SOAP OR SOAP-MAKING; TRANSPORTING; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS

알루미늄 소재 플라즈마 챔버 라이너의 표면 처리 방법이 제공된다. 보다 구체적으로는, 본 개시에 의하면 연마 대상물이 제공되는 제1 단계; 연마 대상물을 비드 블라스팅하여 제1 연마품을 제공하는 제2 단계; 제1 연마품을 초음파 세정하고 화학적 연마 조성물을 사용하여 화학적 연마된 제2 연마품을 제공하는 제3 단계; 제2 연마품을 초음파 세정하고 초임계 유체를 사용하여 세정 및 건조된 제3 연마품을 제공하는 제4 단계; 제3 연마품을 양극산화하여 제3 연마품의 표면에 산화알루미늄 피막을 형성하는 제5 단계; 및 상기 산화알루미늄 피막을 봉공처리하여 표면 처리된 알루미늄 소재 플라즈마 챔버 라이너를 수득하는 제6 단계를 포함하는, 알루미늄 소재 플라즈마 챔버 라이너의 표면 처리 방법이 제공된다.