Method for Surface Treatment of Aluminum Remote Plasma Source Chamber Comprising Physical Polishing and Anodizing

알루미늄 소재 리모트 플라즈마 소스 챔버의 표면 처리 방법이 제공된다. 보다 구체적으로는, 본 개시에 의하면 연마 대상물이 제공되는 제1 단계; 연마 대상물을 비드 블라스팅하여 제1 연마품을 제공하는 제2 단계; 제1 연마품을 초음파 세정하고 화학적 연마 조성물을 사용하여 화학적 연마된 제2 연마품을 제공하는 제3 단계; 제2 연마품을 초음파 세정하고 양극산화하여 제3 연마품의 표면에 산화알루미늄 피막을 형성하는 제4 단계; 상기 산화알루미늄 피막을 봉공처리하여 표면 처리된 알루미늄 소재 리모트 플라즈마 소스 챔버를 수득하는 제5...

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Main Author LIM, CHUN YOUNG
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 09.01.2024
Subjects
ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
APPARATUS THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CHEMISTRY
DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
ELECTROFORMING
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES
FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
GRINDING
MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
METALLURGY
PERFORMING OPERATIONS
POLISHING
PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS
TRANSPORTING
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Summary:알루미늄 소재 리모트 플라즈마 소스 챔버의 표면 처리 방법이 제공된다. 보다 구체적으로는, 본 개시에 의하면 연마 대상물이 제공되는 제1 단계; 연마 대상물을 비드 블라스팅하여 제1 연마품을 제공하는 제2 단계; 제1 연마품을 초음파 세정하고 화학적 연마 조성물을 사용하여 화학적 연마된 제2 연마품을 제공하는 제3 단계; 제2 연마품을 초음파 세정하고 양극산화하여 제3 연마품의 표면에 산화알루미늄 피막을 형성하는 제4 단계; 상기 산화알루미늄 피막을 봉공처리하여 표면 처리된 알루미늄 소재 리모트 플라즈마 소스 챔버를 수득하는 제5 단계를 포함하는, 알루미늄 소재 리모트 플라즈마 소스 챔버의 표면 처리 방법이 제공된다.
Bibliography:Application Number: KR20220081521