가스 분석 장치, 유체 제어 시스템, 가스 분석용 프로그램, 가스 분석 방법

• Main Author: TAKAHASHI MOTONOBU
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 03.01.2024
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; TESTING

화합물을 기화시켜 이루어지는 화합물 가스의 실제 농도와 원하는 이상 농도 간에 차가 있는 경우에, 그 요인을 특정하기 쉽게 할 수 있도록, 화합물과 물을 혼합하여 이루어지는 수용액이 기화하는 주반응에서 생기는 화합물 가스 및 H2O 가스를 분석하는 가스 분석 장치(100)로서, 화합물 가스의 농도를 산출하는 제1 농도 산출부(41)와, H2O 가스의 농도를 산출하는 제2 농도 산출부(42)와, 제1 농도 산출부(41)에 의해 산출된 상기 화합물 가스의 농도인 제1 실제 농도와, 주반응이 이상적으로 진행되었을 경우의 화합물 가스의 농도인 제1 이상 농도를 비교함과 아울러, 제2 농도 산출부(42)에 의해 산출된 H2O 가스의 농도인 제2 실제 농도와, 주반응이 이상적으로 진행되었을 경우의 H2O 가스의 농도인 제2 이상 농도를 비교하는 분석부(44)와, 분석부(44)에 의한 비교에 기초하는 분석 결과를 출력하는 출력부(45)를 구비하도록 했다. A gas analysis device for analyzing a compound gas and H2O gas produced in a main reaction in which an aqueous solution including a compound and water is vaporized, includes a first concentration calculating unit that calculates a concentration of the compound gas, a second concentration calculating unit that calculates a concentration of the H2O gas, an analysis unit that compares a first actual concentration which is the concentration of the compound gas calculated by the first concentration calculating unit with a first ideal concentration which is the concentration of the compound gas in case that the main reaction proceeds ideally, and that compares a second actual concentration which is the concentration of the H2O gas calculated by the second concentration calculating unit with a second ideal concentration which is the concentration of the H2O gas in case that the main reaction proceeds ideally and an output unit.