Substrate processing apparatus temperature control method and substrate processing method using the substrate processing apparatus

• Main Authors: CHOI JIN YOUNG, CHOI SUK LYONG, PARK SEONG JIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 14.12.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 발명은 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 복수의 기판을 일괄적으로 처리하는 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것이다. 본 발명은, 다수의 기판(10)이 배치되는 보트(20)가 로딩 및 언로딩되는 처리공간을 형성하며, 하부에 개구가 형성되는 반응관(100)과; 상기 반응관(100) 적어도 일부를 둘러싸고 설치되는 메인히터(200)와; 상기 메인히터(200) 하측에서 상기 반응관(100) 하부를 둘러싸고 설치되는 서브히터(300)와; 상기 처리공간에 배치되어 상기 반응관(100) 내 온도를 측정하는 프로파일온도센서(400)와; 상기 메인히터(200) 및 상기 서브히터(300) 중 적어도 하나의 온도를 측정하는 모니터링온도센서(500)와; 상기 메인히터(200)를 상기 프로파일온도센서(400) 온도 측정값을 토대로 제어하고, 상기 서브히터(300)를 상기 모니터링온도센서(500) 온도 측정값을 토대로 제어하는 히터제어부를 포함하는 기판처리장치를 개시한다.