DETERMINATION METHOD EXPOSURE METHOD INFORMATION PROCESSING APPARATUS STORAGE MEDIUM EXPOSURE APPARATUS AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

투영 광학계의 결상 특성의 변동을 높은 정밀도로 보정하기 위해서 유리한 기술을 제공한다. 투영 광학계의 결상 특성의 변동을 나타내는 모델식에 사용되는, 투영 광학계에 부여되는 단위 광 에너지당 결상 특성의 변동량을 나타내는 계수를 결정하는 결정 방법은, 결상 특성의 계측을 행하는 공정과, 계측에 의해 얻어진 계측값과, 모델식을 사용해서 얻어지는 결상 특성의 예측값에 기초하여, 계수를 결정하는 공정을 갖고, 모델식은, 기판의 노광을 행하고 있는 동안의 결상 특성의 변동을 나타내는 노광 모델식과, 계측을 행하고 있는 동안의 결상 특성의...

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Main Authors KUROSAWA YOSHIAKI, KOBAYASHI KENYA, KURITA YUSUKE, KITAOKA FUTA, KIMURA HITOSHI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 12.12.2023
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:투영 광학계의 결상 특성의 변동을 높은 정밀도로 보정하기 위해서 유리한 기술을 제공한다. 투영 광학계의 결상 특성의 변동을 나타내는 모델식에 사용되는, 투영 광학계에 부여되는 단위 광 에너지당 결상 특성의 변동량을 나타내는 계수를 결정하는 결정 방법은, 결상 특성의 계측을 행하는 공정과, 계측에 의해 얻어진 계측값과, 모델식을 사용해서 얻어지는 결상 특성의 예측값에 기초하여, 계수를 결정하는 공정을 갖고, 모델식은, 기판의 노광을 행하고 있는 동안의 결상 특성의 변동을 나타내는 노광 모델식과, 계측을 행하고 있는 동안의 결상 특성의 변동을 나타내는 계측 모델식을 포함하고, 노광을 행하고 있는 동안의 결상 특성의 예측값은 노광 모델식을 사용해서 구해지고, 계측을 행하고 있는 동안의 결상 특성의 예측값은 계측 모델식을 사용해서 구해진다.
Bibliography:Application Number: KR20230061479