분광 위상을 사용한 오버레이 계측

• Main Authors: SHCHEGROV ANDREI V, UZIEL YORAM, MANASSEN AMNON, DOLEV IDO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.11.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

간섭측정 오버레이 도구는 간섭계와 컨트롤러를 포함할 수 있다. 간섭계는 하나 이상의 파장을 포함하는 조명을 프로브 경로를 따르는 프로브 빔과 기준 경로를 따르는 기준 빔으로 분할하기 위한 하나 이상의 빔 스플리터, 프로브 빔으로 격자-위-격자 구조체를 조명하기 위한 하나 이상의 조명 광학장치, 격자-위-격자 구조체로부터 측정 빔을 수집하기 위한 하나 이상의 수집 광학장치, 측정 빔과 기준 빔을 간섭 빔으로서 결합하기 위한 하나 이상의 빔 컴바이너, 및 간섭계에서 광 경로차(OPD)를 변경하도록 구성된 가변 위상 지연기를 포함할 수 있다. 컨트롤러는 복수의 OPD 값들 및 하나 이상의 파장과 연관된 간섭측정 위상 데이터를 나타내는 하나 이상의 간섭 신호를 검출기로부터 수신하고, 간섭측정 위상 데이터에 기초하여 격자-위-격자 구조체의 오버레이 오차를 결정할 수 있다. An interferometric overlay tool may include an interferometer and a controller. The interferometer may include one or more beamsplitters to split illumination including one or more wavelengths into a probe beam along a probe path and a reference beam along a reference path, one or more illumination optics to illuminate a grating-over-grating structure with the probe beam, one or more collection optics to collect a measurement beam from the grating-over-grating structure, one or more beam combiners to combine the measurement beam and the reference beam as an interference beam, and a variable phase delay configured to vary an optical path difference (OPD) in the interferometer. The controller may receive one or more interference signals representative of interferometric phase data associated with a plurality of OPD values and the one or more wavelengths from a detector and determine an overlay error of the grating-over-grating structure based on the interferometric phase data.