EXPOSURE APPARATUS EXPOSURE METHOD AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: TAKIGUCHI TAKAHIRO, MOIZUMI JUN, KAWASHIMA JUN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 23.10.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

투영 광학계를 통해 기판을 노광하는 노광 동작을 행하는 노광 장치를 제공한다. 이 장치는, 상기 투영 광학계의 광학소자의 온도분포를 조정하는 온도조정부와, 상기 노광 동작이 실시되는 노광 동작 기간에 있어서, 상기 노광 동작이 실시되는 것에 의한 상기 투영 광학계의 수차의 변화가 저감되도록 상기 온도조정부를 제어하는 제1처리를 행하는 제어부를 구비한다. 상기 제어부는, 상기 노광 동작 기간 전에 미리 결정된 이벤트의 검지에 따라, 상기 제1처리를 행하기 전에, 상기 제1처리와는 상이한 방법을 사용하여 상기 투영 광학계의 수차를 저감하기 위한 제2처리를 행한다. An exposure apparatus that performs an exposure operation of exposing a substrate via a projection optical system is provided. The apparatus includes a temperature regulator configured to regulate a temperature distribution on an optical element of the projection optical system, and a controller configured to perform, in an exposure operation period in which the exposure operation is executed, a first process of controlling the temperature regulator so as to reduce a change of aberration of the projection optical system caused by execution of the exposure operation. In accordance with detection of a predetermined event before the exposure operation period, the controller performs, before performing the first process, a second process for reducing the aberration of the projection optical system using a method different from the first process.