펠리클, 노광 원판, 노광 장치, 펠리클의 제조 방법, 및 반도체 장치의 제조 방법

• Main Author: ONO YOUSUKE
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 19.10.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOUNDS THEREOF; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INORGANIC CHEMISTRY; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

펠리클의 내외의 압력차에 기인하는 펠리클 막의 파손을 억제할 수 있는 펠리클을 제공한다. 펠리클(10A)은, 개구부(H12A)를 갖는 지지 프레임(12A)과, 펠리클 막(11A)을 구비한다. 펠리클 막은 개구부를 덮고 있는 자립막 영역(RA)을 갖는다. 자립막 영역은 노광용 영역(RA1)과, 노광용 영역을 둘러싸는 주연 영역(RA2)을 포함한다. 주연 영역은, 막 두께가 노광용 영역의 막 두께보다도 두꺼운 후막부(TA)를 갖는다. 펠리클은 하기 (i) 또는 (ii)를 만족시킨다. (i) 지지 프레임은 직사각형상의 프레임체이며, 후막부는 상기 주연 영역 중, 한 쌍의 소정의 긴 변 영역에 적어도 위치한다. (ii) 지지 프레임은 정사각형상의 프레임체이며, 후막부는, 상기 주연 영역 중, 한 쌍의 소정의 제1 중앙 영역과, 한 쌍의 소정의 제2 중앙 영역에 적어도 위치한다. A pellicle includes a support frame having an opening, and a pellicle film. The pellicle film has a self-supporting film region covering an opening. The self-supporting film region contains an exposing region and a peripheral border region surrounding the exposing region. The peripheral border region contains a thick film portion having a thicker film thickness than a film thickness of the exposing region. The pellicle satisfies the following (i) or (ii):(i) the support frame is a rectangular frame, and the thick film portion is at least located in a pair of predetermined longer side regions, in the peripheral border region; and(ii) the support frame is a square frame, and the thick film portion is at least located in a pair of predetermined first center regions and a pair of predetermined second center regions, in the peripheral border region.