GAS FLOW GUIDE DESIGN FOR UNIFORM FLOW DISTRIBUTION AND EFFICIENT PURGE

본원에서 설명된 실시예들은, 프로세스 가스를 균일하게 전달하기 위한 가스 유동 입구 가이드, 및 프로세스 가스들을 효과적으로 퍼지하여 퍼지 시간을 감소시키기 위한 가스 유동 출구 가이드를 갖는 챔버를 제공한다. 챔버는, 프로세스 가스 입구 및 프로세스 가스 출구를 갖는 챔버 본체, 리드 조립체, 챔버 내의 프로세싱 구역과 유체 연통하도록 구성된 프로세스 가스 입구 및 프로세스 가스 출구, 프로세스 가스 입구에 배치된 가스 유동 입구 가이드, 및 프로세스 가스 출구에 배치된 가스 유동 출구 가이드를 포함한다. 가스 유동 입구 가이드는...

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Main Authors SUN GUANGWEI, KHO JEFFREY A, KAO CHIEN TEH, RUI XIANGXIN, SHAO SHOUQIAN, ZHOU JIANHUA, KURITA SHINICHI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 10.10.2023
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Summary:본원에서 설명된 실시예들은, 프로세스 가스를 균일하게 전달하기 위한 가스 유동 입구 가이드, 및 프로세스 가스들을 효과적으로 퍼지하여 퍼지 시간을 감소시키기 위한 가스 유동 출구 가이드를 갖는 챔버를 제공한다. 챔버는, 프로세스 가스 입구 및 프로세스 가스 출구를 갖는 챔버 본체, 리드 조립체, 챔버 내의 프로세싱 구역과 유체 연통하도록 구성된 프로세스 가스 입구 및 프로세스 가스 출구, 프로세스 가스 입구에 배치된 가스 유동 입구 가이드, 및 프로세스 가스 출구에 배치된 가스 유동 출구 가이드를 포함한다. 가스 유동 입구 가이드는 유동 조절기, 및 상이한 제1 입구 가이드 채널 영역들을 갖는 적어도 2 개의 제1 입구 가이드 채널들을 포함한다. 가스 유동 출구 가이드는 상이한 제1 출구 가이드 채널 영역들을 갖는 적어도 2 개의 제1 출구 가이드 채널들을 포함한다. Embodiments described herein provide a chamber having a gas flow inlet guide to uniformly deliver process gas and a gas flow outlet guide to effectively purge process gasses and reduce purge time. The chamber includes a chamber body having a process gas inlet and a process gas outlet, a lid assembly, a process gas inlet and a process gas outlet configured to be in fluid communication with a processing region in the chamber, a gas flow inlet guide disposed in the process gas inlet, and a gas flow outlet guide disposed in the process gas outlet. The gas flow inlet guide includes a flow modulator and at least two first inlet guide channels having first inlet guide channel areas that are different. The gas flow outlet guide includes at least two first outlet guide channels having first outlet guide channel areas that are different.
Bibliography:Application Number: KR20237032983