Unit for supplying liquid and apparatus for treating substrate using the same

본 발명의 일 실시예에 따른 액 공급 유닛은 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛으로서, 기판 상으로 처리액을 토출하는 처리액 노즐; 및 상기 처리액 노즐 내 처리액의 거동을 광을 이용하여 감지하기 위한 광학 감지부; 를 포함하되, 상기 처리액 노즐의 적어도 일부 영역은 볼록한 형상을 가진다....

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Main Authors CHOI BYOUNG DOO, SON YOUNG JUN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 10.10.2023
Subjects
APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL
APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
ATOMISING APPARATUS
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
MEASURING
NOZZLES
PERFORMING OPERATIONS
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
SPRAYING APPARATUS
SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL
TESTING
TRANSPORTING
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Summary:본 발명의 일 실시예에 따른 액 공급 유닛은 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛으로서, 기판 상으로 처리액을 토출하는 처리액 노즐; 및 상기 처리액 노즐 내 처리액의 거동을 광을 이용하여 감지하기 위한 광학 감지부; 를 포함하되, 상기 처리액 노즐의 적어도 일부 영역은 볼록한 형상을 가진다.
Bibliography:Application Number: KR20220039653