LARGE AREA PLASMA DEPOSITION APPARATUS

• Main Authors: CHOI YONG SUP, YOU HYUN JONG, HONG SEUNG PYO, LEE KANG IL
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 10.10.2023
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

대면적 플라즈마 증착 장치가 개시된다. 상기 대면적 플라즈마 증착 장치는 2열 이상으로 배치된 복수 개의 표면파 플라즈마 볼 발생원, 및 상기 플라즈마 볼 발생원의 하부에 이격되어 배치되고, 수평 방향으로 이동이 가능한 기판을 포함하고, 상기 복수 개의 표면파 플라즈마 볼 발생원은, 제1열에 인접하게 배치된 제2열의 플라즈마 볼 발생원들이 제1열의 플라즈마 볼 발생원들의 사이에 대각 방향으로 배치된 것을 특징으로 한다.