More Information
Summary:The present invention provides a photosensitive coloring composition which has little residue in a developing process and is compatible with heat resistance. The photosensitive coloring composition comprises: a coloring agent (A); a dispersion resin (B); a photopolymerizable compound (C); and a photopolymerization initiator (D). The dispersion resin (B) includes a resin (B1) having at least one thermosetting group selected from an oxetanyl group, a block isocyanate group, and a tert-butyl group. The photopolymerizable compound (C) includes a hydrocarbon ring-containing multifunctional polyester acrylate having a weight average molecular weight of less than 2,000 and a polymerizable unsaturated group number of 3 or more. (과제) 본 발명은, 현상 공정에서의 잔사가 적고, 내열성과 양립할 수 있는 감광성 착색 조성물의 제공을 목적으로 한다. (해결 수단) 착색제(A), 분산 수지(B), 광중합성 화합물(C), 및 광중합개시제(D)를 포함하는 감광성 착색 조성물로서, 분산 수지(B)는, 옥세타닐기, 블록 이소시아네이트기, 및 tert-부틸기로부터 선택되는 1종 이상의 열경화성기를 갖는 수지(B1)를 포함하고, 광중합성 화합물(C)은, 중량 평균 분자량 2000 미만이며 또한 중합성 불포화기수가 3 이상인 탄화수소환 함유 다관능 폴리에스테르아크릴레이트를 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20230026520