막 두께 측정 장치 및 막 두께 측정 방법

• Main Authors: NAKAMURA TOMONORI, IGUCHI KAZUYA, OHTSUKA KENICHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 05.10.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

막 두께 측정 장치는, 제조 공정 중의 샘플의 막 두께를 측정하는 막 두께 측정 장치로서, 제조 공정에 있어서 발생하여, 샘플의 일면을 반사한 광(플라즈마광)을 집광하는 렌즈와, 소정의 파장역에 있어서 파장에 따라 투과율 및 반사율이 변화하고, 렌즈에 의해서 집광된 광을 투과 및 반사시킴으로써 분리하는 경사 다이크로익 미러와, 경사 다이크로익 미러에 의해서 분리된 광을 촬상하는 에어리어 센서와, 광을 촬상한 에어리어 센서로부터의 신호에 기초하여 샘플의 막 두께를 추정하여, 샘플의 일면의 막 두께 분포를 구하는 제어 장치를 구비하고, 샘플을 반사한 광은, 경사 다이크로익 미러의 소정의 파장역에 포함되는 파장의 광을 포함한다. A film thickness measuring apparatus measures a film thickness of a sample during a manufacturing step. The film thickness measuring apparatus includes a lens focusing light (plasma light) generated in the manufacturing step and reflected by one surface of the sample, an inclined dichroic mirror having a transmissivity and a reflectivity changing in accordance with a wavelength in a predetermined wavelength region and separating light focused by the lens through transmission and reflection, an area sensor capturing an image of light separated by the inclined dichroic mirror, and a control apparatus estimating the film thickness of the sample on the basis of a signal from the area sensor capturing an image of light and obtaining a film thickness distribution on the one surface of the sample. Light reflected by the sample includes light having a wavelength included in the predetermined wavelength region of the inclined dichroic mirror.