ETCHANT

과황산염; 함불소 화합물; 함염소 화합물; 고리형 아민 화합물; 무기산; 제1화합물; 및 물;을 포함하고, 상기 제1화합물은 술폰기, 술폰산기, 또는 이의 조합; 및 아민기; 함유 화합물이고, 계면 침투 억제 지수(Y)가 0.10 이상 및 0.35 이하를 만족하고, 상기 계면 침투 억제 지수(Y)는 하기 <식 1>에 의하여 계산된 값인, 식각액 조성물에 관한 것이다: <식 1> Y = 1.4×10-4×M(X1) + 1.3×10-4×M(X2) + 1.45×10-3×M(X3) + 1.5×10-5×M(X1)×M(X2...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors YOON YOUNG JIN, HUH JONG MOO, LEE EUN WON, YANG SHIN HYUK, CHO HYEON SU, PARK JI HUN, KIM BEOM SOO, KANG DONG HAN, KIM JEE HOON
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 05.10.2023
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:과황산염; 함불소 화합물; 함염소 화합물; 고리형 아민 화합물; 무기산; 제1화합물; 및 물;을 포함하고, 상기 제1화합물은 술폰기, 술폰산기, 또는 이의 조합; 및 아민기; 함유 화합물이고, 계면 침투 억제 지수(Y)가 0.10 이상 및 0.35 이하를 만족하고, 상기 계면 침투 억제 지수(Y)는 하기 <식 1>에 의하여 계산된 값인, 식각액 조성물에 관한 것이다: <식 1> Y = 1.4×10-4×M(X1) + 1.3×10-4×M(X2) + 1.45×10-3×M(X3) + 1.5×10-5×M(X1)×M(X2) + 1.6×10-3×M(X1)×M(X3) + 6.5×10-4×M(X2)×M(X3) 상기 식 1에 대한 설명은 본 명세서에 기재된 바를 참조한다. An etchant including: persulfate; a fluorine-containing compound; a chlorine-containing compound; a cyclic amine compound; an inorganic acid; a first compound; and water, wherein the first compound is a compound containing: a sulfonic group, a sulfonic acid group, or a combination thereof; and an amine group, and an interfacial permeation inhibition index (Y) of the etchant is a value of at least about 0.10 and not more than about 0.35, the interfacial permeation inhibition index (Y) being a value calculated by Equation 1:Y=1.4×10−4×M(X1)+1.3×10−4×M(X2)+1.45×10−3×M(X3)+1.5×10−5×M(X1)×M(X2)+1.6×10−3M(X1)×M(X3)+6.5×10−4×M(X2)×M(X3)  Equation 1The description of Equation 1 is as in the specification.
Bibliography:Application Number: KR20220034934