Substrate processing apparatus
The present invention relates to a substrate processing device and, more specifically, to a substrate processing device which can detect tilting of a substrate in vertical and/or horizontal directions within a chamber when processing processes such as a drying process for a substrate using supercrit...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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11.09.2023
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Summary: | The present invention relates to a substrate processing device and, more specifically, to a substrate processing device which can detect tilting of a substrate in vertical and/or horizontal directions within a chamber when processing processes such as a drying process for a substrate using supercritical fluid and the like.
본 발명은 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 초임계유체를 이용하여 기판에 대한 건조공정 등의 처리공정을 진행하는 경우에 챔버 내부에서 기판의 수직방향 및/또는 수평방향에 대한 틸팅을 감지할 수 있는 기판처리장치에 대한 것이다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20220026508 |