SYSTEMS FOR OPERATING ELECTROKINETIC DEVICES
전기역학적 디바이스를 동작시키기 위한 시스템은 전기역학적 디바이스를 유지하고 전기역학적 디바이스와 동작적으로 결합하도록 구성된 지지체, 전기역학적 디바이스에서 한 쌍의 전극들에 걸쳐 바이어싱 전압을 인가하도록 구성된 통합된 전기적 신호 생성 서브시스템, 및 구조화된 광을 전기역학적 디바이스 상으로 방출하도록 구성된 광 변조 서브시스템을 포함한다. 시스템은 열 제어된 흐름 제어기를 더 포함할 수 있고, 및/또는 전기역학적 디바이스에 걸쳐 임피던스를 측정하도록 구성될 수 있다. 시스템은 광학적 트레인을 포함하는 광학 현미경일 수 있다....
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
29.08.2023
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Summary: | 전기역학적 디바이스를 동작시키기 위한 시스템은 전기역학적 디바이스를 유지하고 전기역학적 디바이스와 동작적으로 결합하도록 구성된 지지체, 전기역학적 디바이스에서 한 쌍의 전극들에 걸쳐 바이어싱 전압을 인가하도록 구성된 통합된 전기적 신호 생성 서브시스템, 및 구조화된 광을 전기역학적 디바이스 상으로 방출하도록 구성된 광 변조 서브시스템을 포함한다. 시스템은 열 제어된 흐름 제어기를 더 포함할 수 있고, 및/또는 전기역학적 디바이스에 걸쳐 임피던스를 측정하도록 구성될 수 있다. 시스템은 광학적 트레인을 포함하는 광학 현미경일 수 있다. 시스템은, 광 변조 서브시스템의 일부일 수 있고, 실질적으로 균일한 강도의 광을 광 변조 서브시스템으로 또는 광학적 트레인으로 직접적으로 공급하도록 구성될 수 있는 광 파이프를 더 포함할 수 있다.
A system for operating an electrokinetic device includes a support configured to hold and operatively couple with the electrokinetic device, an integrated electrical signal generation subsystem configured to apply a biasing voltage across a pair of electrodes in the electrokinetic device, and a light modulating subsystem configured to emit structured light onto the electrokinetic device. The system can further include a thermally controlled flow controller, and/or be configured to measure impedance across the electrokinetic device. The system can be a light microscope, including an optical train. The system can further include a light pipe, which can be part of the light modulating system, and which can be configured to supply light of substantially uniform intensity to the light modulating system or directly to the optical train. |
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Bibliography: | Application Number: KR20237027571 |