MONOLITHIC FLUID SENSOR SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE MONOLITHIC FLUID SENSOR SYSTEM

• Main Authors: BARTL ULF, OSTERMANN THOMAS, KOVATSCH CHRISTOPH, STOCKER GERALD, ASCHAUER ELMAR, GRILLE THOMAS
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 17.08.2023
• Subjects: COLORIMETRY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; MEASURING; PHYSICS; RADIATION PYROMETRY; TESTING

According to an embodiment, a monolithic fluid sensor system (100) comprises: a sensor arrangement (110) having a thermal radiation emitter (111), an optical filter structure (112), a waveguide structure (113) and a thermal radiation detector (114) on a first main surface region of a sensor substrate (115); a cover substrate (120), wherein a recess (122) is arranged in a first main surface region of the cover substrate (120) and a through-opening (126) is arranged between the recess (122) in the first main surface region and a second main surface region of the cover substrate (120), wherein the first main surface region of the cover substrate (120) is bonded to the first main surface region of a sensor substrate (115; 105), and wherein the sensor arrangement (110) is arranged below the recess (122) of the cover substrate (120); a reference sensor arrangement (130) having a reference thermal radiation emitter (131), a reference optical filter structure (132), a reference waveguide structure (133) and a reference thermal radiation detector (134) on a first main surface region of a reference sensor substrate (135); and a reference cover substrate (140), wherein a reference recess (142) is arranged in a first main surface region of the reference cover substrate (140), wherein the first main surface region of the reference cover substrate (140) is bonded to the first main surface region of the reference sensor substrate (135), and wherein the reference recess (142) in the first main surface region of the reference cover substrate (140) forms a hermetically closed cavity (144) for the reference sensor arrangement (130). 한 실시예에 따르면, 모놀리식 유체 센서 시스템(100)은, 센서 기판(115)의 제1 주표면 영역 상에, 열복사 방출기(111), 광학 필터 구조물(112), 도파관 구조물(113) 및 열복사 검출기(114)를 갖는 센서 배열(110), 커버 기판(120), -커버 기판(120)의 제1 주표면 영역에는 오목부(122)가 배열되고, 제1 주표면 영역의 오목부(122)와 커버 기판(120)의 제2 주표면 영역 사이에는 관통-개구(126)가 배열되고, 커버 기판(120)의 제1 주표면 영역은 센서 기판(115; 105)의 제1 주표면 영역에 본딩되고, 센서 배열(110)은 커버 기판(120)의 오목부(122) 아래에 배열됨-, 기준 센서 기판(135)의 제1 주표면 영역 상에, 기준 열복사 방출기(131), 기준 광학 필터 구조물(132), 기준 도파관 구조물(133) 및 기준 열복사 검출기(134)를 갖는 기준 센서 배열(130), 및 기준 커버 기판(140) -기준 커버 기판(140)의 제1 주표면 영역에는 기준 오목부(142)가 배열되고, 기준 커버 기판(140)의 제1 주표면 영역은 기준 센서 기판(135)의 제1 주표면 영역에 본딩되고, 기준 커버 기판(140)의 제1 주표면 영역의 기준 오목부(142)는 기준 센서 배열(130)을 위한 밀폐형 캐버티(144)를 형성함- 을 포함한다.