고출력 저전압 압전 마이크로미러 액추에이터

마이크로미러 어레이는 기판, 입사광을 반사하기 위한 복수의 미러 및 복수의 미러의 각각의 미러에 대해 미러를 변위시키기 위한 적어도 하나의 다층 압전 액추에이터를 포함하며, 상기 적어도 하나의 다층 압전 액추에이터는 기판에 연결되고, 상기 적어도 하나의 다층 압전 액추에이터는 복수의 전극 층과 인터리빙되어 층의 스택을 형성하는 압전 재료의 복수의 압전 층을 포함한다. 또한, 이러한 마이크로미러 어레이를 형성하는 방법이 개시되어 있다. 마이크로미러 어레이는 프로그래밍 가능한 조명기에서 사용될 수 있다. 프로그래밍 가능한 조명기는 리소...

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Main Authors VAN DER WOORD TIES WOUTER, OVERKAMP JIM VINCENT, GOORDEN SEBASTIANUS ADRIANUS, OSORIO OLIVEROS EDGAR ALBERTO, HASPESLAGH LUC ROGER SIMONNE, YEGEN HALIL GOKAY, BRONDANI TORRI GUILHERME, PANDEY NITESH, KLEIN ALEXANDER LUDWIG
Format Patent
LanguageKorean
Published 27.07.2023
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Summary:마이크로미러 어레이는 기판, 입사광을 반사하기 위한 복수의 미러 및 복수의 미러의 각각의 미러에 대해 미러를 변위시키기 위한 적어도 하나의 다층 압전 액추에이터를 포함하며, 상기 적어도 하나의 다층 압전 액추에이터는 기판에 연결되고, 상기 적어도 하나의 다층 압전 액추에이터는 복수의 전극 층과 인터리빙되어 층의 스택을 형성하는 압전 재료의 복수의 압전 층을 포함한다. 또한, 이러한 마이크로미러 어레이를 형성하는 방법이 개시되어 있다. 마이크로미러 어레이는 프로그래밍 가능한 조명기에서 사용될 수 있다. 프로그래밍 가능한 조명기는 리소그래피 장치 및/또는 검사 및/또는 메트롤로지 장치에서 사용될 수 있다. A micromirror array comprises a substrate, a plurality of mirrors for reflecting incident light and, for each mirror of the plurality of mirrors, at least one multilayer piezoelectric actuator for displacing the mirror, wherein the at least one multilayer piezoelectric actuator is connected to the substrate, and wherein the at least one multilayer piezoelectric actuator comprises a plurality of piezoelectric layers of piezoelectric material interleaved with a plurality of electrode layers to form a stack of layers. Also disclosed is a method of forming such a micromirror array. The micromirror array may be used in a programmable illuminator. The programmable illuminator may be used in a lithographic apparatus and/or in an inspection and/or metrology apparatus.
Bibliography:Application Number: KR20237018266