RF RF AMPLIFIER DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURING
트랜지스터 증폭기는, 제1 및 제2 주 표면들을 포함하는 반도체 층 구조, 및 전기적으로 병렬로 연결되는, 제1 주 표면 상에 있는 복수의 단위 셀 트랜지스터들을 포함하며, 각각의 단위 셀 트랜지스터는 게이트 매니폴드에 결합되는 게이트 핑거, 드레인 매니폴드에 결합되는 드레인 핑거, 및 소스 핑거를 포함한다. 반도체 층 구조에는 제2 주 표면 상에 소스 핑거들에 대한 비아가 없다. A transistor amplifier includes a semiconductor layer structure comprising first and...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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17.07.2023
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Summary: | 트랜지스터 증폭기는, 제1 및 제2 주 표면들을 포함하는 반도체 층 구조, 및 전기적으로 병렬로 연결되는, 제1 주 표면 상에 있는 복수의 단위 셀 트랜지스터들을 포함하며, 각각의 단위 셀 트랜지스터는 게이트 매니폴드에 결합되는 게이트 핑거, 드레인 매니폴드에 결합되는 드레인 핑거, 및 소스 핑거를 포함한다. 반도체 층 구조에는 제2 주 표면 상에 소스 핑거들에 대한 비아가 없다.
A transistor amplifier includes a semiconductor layer structure comprising first and second major surfaces and a plurality of unit cell transistors on the first major surface that are electrically connected in parallel, each unit cell transistor comprising a gate finger coupled to a gate manifold, a drain finger coupled to a drain manifold, and a source finger. The semiconductor layer structure is free of a via to the source fingers on the second major surface. |
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Bibliography: | Application Number: KR20237023100 |