반도체 리소그래피용 광학 요소의 본체를 제조하는 방법, 및 반도체 리소그래피용 광학 요소의 본체

• Main Authors: WOLPERT ANDREAS, STICKEL FRANZ JOSEF
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 07.07.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 반도체 리소그래피용 광학 요소의 본체(33)를 제조하는 방법에 관한 것으로, 방법은: - 블랭크(32)를 제조하는 단계, - 적어도 하나의 유체 채널(36.x)을 블랭크(32)에 도입하는 단계, 이어서 - 몰드(42) 상으로 블랭크(32)를 성형함으로써 본체(33)를 제조하는 단계를 포함한다. 더욱이, 본 발명은 적어도 하나의 유체 채널(36.x)을 포함하는 광학 요소의 본체(33)에 관한 것이며, 유체 채널(36.x)은 광학적 활성 영역(41)을 위해 제공되는 본체(33)의 표면(40)과 유체 채널(36.x) 사이의 거리가 1 mm 미만, 바람직하게는 0.1 mm 미만, 특히 바람직하게는 0.02 mm 미만으로 변하는 바와 같은 방식으로 구현된다. A method for producing a main body (33) of an optical element for semiconductor lithography includes: -producing a blank (32), -introducing at least one fluid channel (36.x) into the blank (32), then -producing the main body (33) by shaping the blank (32) onto a mold (42). Furthermore, the disclosure describes a main body (33) of an optical element that includes at least one fluid channel (36.x), the fluid channel (36.x) being embodied such that the distance between the fluid channel (36.x) and the surface (40) of the main body (33) provided for an optically active area (41) varies by less than 1 mm, preferably less than 0.1 mm and particularly preferably less than 0.02 mm.