샘플링 방식 생성 모델의 구성을 위한 방법들 및 컴퓨터 프로그램들

• Main Authors: WERKMAN ROY, WILDENBERG JO SEBASTIAAN, SAHRAEIAN REZA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 04.07.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

1 이상의 현재 기판에 대한 현재 샘플링 방식을 추론하는 방법이 제공되며, 상기 방법은: 1 이상의 이전 기판과 연계된 컨텍스트 및/또는 노광-전 데이터의 입력에 기초하여 최적 샘플링 방식을 추론하도록 트레이닝되는 제 1 모델을 얻는 단계 -상기 제 1 모델은 추론된 최적 샘플링 방식과 사전설정된 최적 샘플링 방식을 판별하도록 구성되는 제 2 모델의 결과에 의존하여 트레이닝됨- ; 및 얻어진 제 1 모델을 사용하여, 1 이상의 현재 기판과 연계된 컨텍스트 및/또는 노광-전 데이터의 입력에 기초하여 현재 샘플링 방식을 추론하는 단계를 포함한다. A method to infer a current sampling scheme for one or more current substrates is provided, the method including: obtaining a first model trained to infer an optimal sampling scheme based on inputting context and/or pre-exposure data associated with one or more previous substrates, wherein the first model is trained in dependency of an outcome of a second model configured to discriminate between the inferred optimal sampling scheme and a pre-determined optimal sampling scheme; and using the obtained first model to infer the current sampling scheme based on inputting context and/or pre-exposure data associated with the one or more current substrate.