라디칼 발생막 형성 조성물, 라디칼 발생막, 액정 표시 소자의 제조 방법, 및 액정 표시 소자

본 발명은, 성분 (A): 횡전계 구동용 액정 배향제의 배향 성분으로서 이용되는 중합체, 및 성분 (B): 하기 식 (1)로 표시되는 기를 갖는 규소 함유 화합물,을 함유하는 라디칼 발생막 형성 조성물. JPEGpct00069.jpg760 (식 (1) 중, *는 결합 부위를 나타내고, R1은 단결합, -CH2-, -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-, -CH2O-, -N(CH3)-, -CON(CH3)-, 또는 -N(CH3)CO-를 나타낸다. R2는 단결합, 또는 비치환 또는 불소 원자에 의해 치환되...

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Main Authors OTA SYOTARO, MIYAKE KAZUNARI, NODA TAKAHIRO
Format Patent
LanguageKorean
Published 29.06.2023
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Summary:본 발명은, 성분 (A): 횡전계 구동용 액정 배향제의 배향 성분으로서 이용되는 중합체, 및 성분 (B): 하기 식 (1)로 표시되는 기를 갖는 규소 함유 화합물,을 함유하는 라디칼 발생막 형성 조성물. JPEGpct00069.jpg760 (식 (1) 중, *는 결합 부위를 나타내고, R1은 단결합, -CH2-, -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-, -CH2O-, -N(CH3)-, -CON(CH3)-, 또는 -N(CH3)CO-를 나타낸다. R2는 단결합, 또는 비치환 또는 불소 원자에 의해 치환되어 있는 탄소수 1∼20의 알킬렌기를 나타내며, 당해 알킬렌기의 임의의 -CH2- 또는 -CF2-의 1 이상은, 각각 독립적으로 -CH=CH-, 2가의 탄소환, 및 2가의 복소환으로부터 선택되는 기로 치환되어 있어도 되고, 또한, 당해 알킬렌기의 임의의 -CH2- 또는 -CF2-의 1 이상은, 다음에 열거하는 어느 기, 즉, -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, 또는 -NH-가 서로 이웃하지 않는 것을 조건으로, 이들 중 적어도 어느 기로 치환되어 있어도 된다. R3은, 라디칼 중합을 유발하는 유기기를 나타낸다.) A radical generation film-forming composition containing a component (A) (a polymer used as an alignment component of a liquid crystal alignment agent for in-plane switching) and a component (B) (a silicon-containing compound having a group represented by formula (1)). (In formula (1): * represents a bonding site, and R1 represents a single bond, -CH2-, -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-, -CH2O-, -N(CH3)-, -CON(CH3)-, or -N(CH3)CO-; R2 represents a single bond, or a C1-20 alkylene group that is unsubstituted or substituted with a fluorine atom, where one or more of any -CH2- or -CF2- in the alkylene group may each independently be substituted with a group selected from -CH=CH-, a divalent carbocyclic ring, and a divalent heterocyclic ring, and furthermore, one or more of any -CH2- or -CF2- in the alkylene group may be substituted with any of the following groups, i.e., -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, or -NH-, provided that said groups are not adjacent to each other; and R3 represents an organic group that induces radical polymerization.)
Bibliography:Application Number: KR20237016397