SEMICONDUCTOR STRUCTURE FOR NANORIBBON ARCHITECTURES
Embodiments disclosed herein include a semiconductor device and a method for forming the device. In one embodiment, the semiconductor device includes a pin having a first end and a second end. In one embodiment, the first dielectric covers the first end of a fin and the second dielectric covers the...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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28.06.2023
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Summary: | Embodiments disclosed herein include a semiconductor device and a method for forming the device. In one embodiment, the semiconductor device includes a pin having a first end and a second end. In one embodiment, the first dielectric covers the first end of a fin and the second dielectric covers the second end of the fin. In one embodiment, a gate structure is over the first end of the fin and the gate structure is on the top surface of the fin and the top surface of the first dielectric.
본 명세서에 개시된 실시예는 반도체 디바이스 및 이러한 디바이스를 형성하는 방법을 포함한다. 일 실시예에서, 반도체 디바이스는 제1 단부 및 제2 단부를 갖는 핀을 포함한다. 일 실시예에서, 제1 유전체는 핀의 제1 단부를 덮고, 제2 유전체는 핀의 제2 단부를 덮는다. 일 실시예에서, 게이트 구조물은 핀의 제1 단부 위에 있으며, 게이트 구조물은 핀의 상단 표면 및 제1 유전체의 상단 표면 상에 있다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20220154974 |