APPARATUS OF PROVIDING CHEMICAL LIQUID

• Main Author: KIM, JEONG GOO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 20.06.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

Disclosed is a liquid chemical supply device capable of more effectively removing defect-causing factors in liquid chemicals. The liquid chemical supply device comprises: a chemical storage unit; a temperature controller; a first pipe structure; and a pump. The chemical storage unit carries the liquid chemicals and is provided with a chemical inlet and a chemical outlet. The temperature controller can control the temperature of the liquid chemical stored in the chemical storage unit within a certain range. The first pipe structure constitutes a path that allows the liquid chemicals flowing out of the chemical storage unit through the chemical outlet to flow back into the chemical storage unit through the chemical inlet. The pump is provided in the pipe structure and circulates the liquid chemicals inside the first pipe structure. According to the present invention, it is possible to be applied to remove the source of defects caused by photoresists for lithography processes of various light sources (I-line, KrF, ArF) and other patterning-related materials (spin-on carbon, anti-reflective film, spin-on dielectric film, photoresist lower film, etc.). 액상 케미컬의 결함 유발 인자를 보다 효과적으로 제거할 수 있는 액상 케미컬 공급장치가 개시된다. 이러한 액상 케미컬 공급장치는 케미컬 저장부, 온도 조절기, 제1 파이프 구조체 및 펌프를 포함한다. 상기 케미컬 저장부는, 액상 케미컬을 담지하고, 케미컬 유입구 및 케미컬 배출구를 구비한다. 상기 온도 조절기는, 상기 케미컬 저장부에 저장된 액상 케미컬의 온도를 일정 범위 내에서 조절할 수 있다. 상기 제1 파이프 구조체는, 상기 케미컬 배출구를 통해서 상기 케미컬 저장부로부터 유출된 액상 케미컬을, 상기 케미컬 유입구를 통해서 다시 상기 케미컬 저장부로 유입될 수 있도록 하는 패스를 구성한다. 상기 펌프는, 상기 파이프 구조체에 구비되어, 상기 제1 파이프 구조체 내부의 액상 케미컬을 순환시킨다.