Apparatus controlling gas flow rates at multi-ports

• Main Authors: AHN CHANG GEUN, CHUNG KWANG HYO, JANG YONG WON, NOH HYUNG WOOK, CHOI JAE HUN, KIM SEUNG HWAN, KIM DO HYUN, PARK HWIN DOL
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 12.06.2023
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; TESTING

The present invention relates to an apparatus for controlling gas flow rates of multi-ports. The apparatus for controlling gas flow rates of multi-ports of the present invention comprises: a gas supply chamber which branches off and supplies measurement gas input through one gas inlet pipe; a plurality of gas branch pipes which has one side connected to the gas supply chamber and respectively transmit measurement gas flowing through the gas supply chamber to a plurality of gas sensors; and a gas measurement chamber which stores each of the plurality of gas sensors, allows discharged gas branched through the gas supply chamber to be transmitted to each of the plurality of stored gas sensors, and discharges the discharged gas detected through the plurality of gas sensors. 본 발명은 멀티 포트 가스 유량 제어 장치에 관한 것이다. 본 발명은 하나의 가스 유입 유관을 통해 입력되는 측정가스를 각각 분기하여 공급하는 가스 공급챔버; 일측이 상기 가스 공급챔버와 연결되어 상기 가스 공급챔버를 통해 유입되는 측정가스를 복수의 가스 센서에 각각 전달하는 복수의 가스 분기 유관; 및 상기 복수의 가스 센서를 각각 격납하고, 상기 가스 공급챔버를 통해 분기되는 유출 가스가 상기 격납된 상기 복수의 가스 센서에 각각 전달되고, 상기 복수의 가스 센서를 통해 감지한 유출 가스를 배출하는 가스 측정챔버를 포함한다.