코팅을 생성하도록 지정된 건조 프로세스를 조정하기 위한 방법 및 시스템

• Main Authors: EBERLE FELIX, SCHMITT MARCEL, CETINEL FATIH, SCHAEFER STEPHAN, WOLF UWE, SCHMIDT HANSBERG BENJAMIN, CHAN BRAUN CLEMENS THOMAS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 02.06.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRICITY; PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSIONOF CHEMICAL INTO ELECTRICAL ENERGY

본 발명은 적어도 하나의 기판(118, 118') 상에 적어도 하나의 코팅(112, 112')을 생성하도록 지정된 적어도 하나의 건조 프로세스를 조정하기 위한 컴퓨터에 의해 구현된 방법(410) 및 시스템(420)에 관한 것이고, 적어도 하나의 건조 프로세스는 적어도 하나의 기판(118, 118') 상에 퇴적된 적어도 하나의 준비물에 적용되고, 적어도 하나의 건조 프로세스는 적어도 2개의 연속적인 건조 스테이지들(222, 224, 226)을 포함하고, 그 후에 적어도 하나의 코팅(112, 112')이 생성된다. 여기서, 방법(410)은 다음의 단계들을 포함한다: (i) 적어도 2개의 연속적인 건조 스테이지들(222, 224, 226)의 레이아웃에 관한, 준비물의 조성에 관한, 및 적어도 하나의 기판(118, 118')에 관한 정보(154, 156, 158)를 수신하는 단계; (ii) 건조 스테이지들(222, 224, 226) 중 적어도 하나의 건조 스테이지 동안 이용되는 적어도 하나의 연관된 건조기(132, 132', 132")에 대한 적어도 하나의 설정 파라미터에 대한 적어도 하나의 예측값(162)을 생성하도록 구성된 적어도 하나의 모델을 이용하는 단계; (iii) 적어도 하나의 모델 및 정보(154, 156, 158)에 기초하여 건조 스테이지들(222, 224, 226) 중 적어도 하나의 건조 스테이지 동안 이용되는 적어도 하나의 연관된 건조기(132, 132', 132")에 대한 적어도 하나의 설정 파라미터에 대한 적어도 하나의 예측값(162)을 결정하는 단계; 및 (iv) 건조 스테이지들(222, 224, 226) 중 적어도 하나의 건조 스테이지 동안 이용되기에 적합한 적어도 하나의 연관된 건조기(132, 132', 132")에 대한 적어도 하나의 설정 파라미터에 대한 적어도 하나의 예측값(162)을 포함하는 적어도 하나의 건조 프로세스를 조정하기 위한 적어도 하나의 추천 절차(166)를 제공하는 단계. 또한, 적어도 하나의 기판(118, 118') 상에 적어도 하나의 코팅(112, 112')을 연속적으로 생성하기 위한 관련된 방법 및 시스템(110)이 개시된다. A computer-implemented method and system for adjusting at least one drying process designated for producing at least one coating on at least one substrate are provided herein. The at least one drying process is applied to at least one preparation deposited on the at least one substrate, wherein the at least one drying process comprises at least two consecutive drying stages after which the at least one coating is produced Further disclosed are a related method and system for continuously producing the at least one coating on the at least one substrate.