금속 타겟으로부터 PVD에 의해 제조된 Al-풍부한 AlTiN 코팅층

• Main Authors: YALAMANCHILI SIVA PHANI KUMAR, KRASSNITZER SIEGFRIED, EBERSOLD MARIJANA MIONIC
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 02.06.2023
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 발명은 코팅층 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 코팅층은, Al, Ti 및 N 를 주성분으로 포함하며, 공식 (AlaTib)xNy에 따른 이들 원소(elements)에 대해 원자 백분율의 화학 원소 조성을 가지며, a 및 b 는 각각 코팅층의 원소 조성 계산을 위해 Al 및 Ti 만을 고려한 원자비율에서 알루미늄 및 티타늄의 농도이고, 여기서 a+b=1 및 0≠a ≥ 0.7 및 0≠b ≥ 0.2 이며, x 는 Al 농도 및 Ti 농도의 합이고, y 는 코팅층의 원소 조성의 계산을 위해 Al, Ti 및 N 만을 고려한 원자비율에서 질소 농도이고, x+y　=　1 및 0.45　≤x ≤0.55 이며, 코팅층은 90%이상의 fcc 입방상(cubic phase)을 나타내며, 2.5　GPa 이상의 압축응력, 바람직하게는 2.5　GPa 및 6　GPa 사이이다. A coating layer and a method for producing thereof, wherein the coating layer includes Al, Ti and N as main components according to formula (AlaTib)xNy, where a and b are respectively the concentration of aluminium and titanium in atomic ratio considering only Al and Ti for the calculation of the element composition in the layer, whereby a+b=1 and 0≠a≥0.7 and 0≠b≥0.2, and where x is the sum of the concentration of Al and the concentration of Ti, and y is the concentration of nitrogen in atomic ratio considering only Al, Ti and N for the calculation of the element composition in the layer, whereby x+y=1 and 0.45≤x≤0.55, and wherein the coating layer exhibits 90% or more of fcc cubic phase, and compressive stress of 2.5 GPa or more, preferably between 2.5 GPa and 6 GPa.