EUV METROLOGY SYSTEM FOR EXAMINING OBJECTS WITH EUV MEASUREMENT LIGHT

A measuring system serves to inspect an object with EUV measurement light. An illumination optical unit guides the EUV measurement light towards the object to be inspected. The illumination optical unit includes an illumination optical unit aperture for defining the intensity distribution of the mea...

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Main Authors CAPELLI RENZO, GWOSCH KLAUS
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 02.06.2023
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Summary:A measuring system serves to inspect an object with EUV measurement light. An illumination optical unit guides the EUV measurement light towards the object to be inspected. The illumination optical unit includes an illumination optical unit aperture for defining the intensity distribution of the measurement light within an illumination pupil on a pupil plane of the illumination optical unit. An output coupling mirror (9) functions to output couple a portion of the measurement light from an illumination beam path of the illumination optical unit. The output coupling mirror (9) has a mirror surface used for output coupling the measurement light, and has an aspect ratio of the maximum longitudinal range (A) of the mirror surface with respect to the longitudinal dimension (x) of the mirror surface over the minimum longitudinal range (B) of the mirror surface with respect to the transverse dimension (y) of the mirror surface perpendicular to the longitudinal dimension (x). The aspect ratio (A/B) is greater than 1.1. Consequently, the measuring system optimizes the measurement light throughput even in the simulation or emulation of an imaging optical unit of a projection exposure device having the number of image-side apertures greater than 0.5, especially in the simulation or emulation of an anamorphic imaging optical unit. 계측 시스템은 EUV 측정 조명으로 물체를 검사하는 역할을 한다. 조명 광학 유닛은 EUV 측정 광을 검사될 물체를 향하여 가이드하는 역할을 한다. 조명 광학 유닛은 조명 광학 유닛의 동공 평면에서 조명 동공 내의 측정 광 강도 분포를 규정하기 위한 조명 광학 유닛 조리개를 갖는다. 출력 커플링 미러(9)는 조명 광학 유닛의 조명 빔 경로에서 측정 광의 일부를 출력 커플링하는 역할을 한다. 출력 커플링 미러(9)는 측정 광을 출력 커플링하는데 사용되는 미러 표면을 갖고, 미러 표면 종방향 치수(x)에 대한 종방향 최대 미러 표면 범위(A) 대 미러 표면 종방향 치수(x)에 수직인 미러 표면 횡방향 치수(y)에 대한 종방향 최소 미러 표면 범위(B)의 종횡비를 갖는다. 종횡비(A/B)는 1.1 보다 크다. 결과는 0.5보다 큰 이미지 측 개구수를 갖는 투영 노광 장치의 이미징 광학 유닛의 시뮬레이션 또는 에뮬레이션, 특히 아나모픽 이미징 광학 유닛의 시뮬레이션 또는 에뮬레이션에서도 측정 광 처리량이 최적화되는 계측 시스템이다.
Bibliography:Application Number: KR20220154361