Flow resistance generating unit and substrate treating apparatus including the same

• Main Authors: SUNG JIN YEONG, SHIN JAE WON, WON JOON HO, KANG HYUNG SEOK, CHOI HAE WON, ANTON KORIAKIN, KIM EUNG SU, LEE JAE SEONG, KIM MIN WOO, HEO PIL KYUN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 17.04.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; BLASTING; DRYING; DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; HEATING; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; SEMICONDUCTOR DEVICES; WEAPONS

Provided are a flow resistance generating unit installed in a pipe to stabilize an inner current, and a substrate treating apparatus including the same. The substrate treating apparatus comprises: a housing; a support unit installed in the housing to support the substrate on both sides thereof; a heating member installed on a side wall of the housing to generate heat for treating the substrate; a fluid supply unit supplying fluid for treating the substrate to the interior of the housing, and including an upper fluid supply unit supplying the fluid to an upper part of the substrate, a lower fluid supply unit supplying the fluid to a lower part of the substrate, and a supply pipe connected to at least one of the upper fluid supply unit and the lower fluid supply unit; and the flow resistance generating unit installed in the supply pipe to generate flow resistance against the fluid passing through the supply pipe. The flow resistance generating unit is provided between a curved pipe included in the supply pipe and the fluid supply unit. 내부 기류를 안정화시키기 위해 배관 내에 설치되는 유동 저항 발생 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 상기 기판 처리 장치는, 하우징; 하우징의 내부에 설치되며, 양측에서 기판을 지지하는 지지 유닛; 하우징의 측벽에 설치되며, 기판을 처리하기 위한 열을 발생시키는 가열 부재; 하우징의 내부로 기판을 처리하기 위한 유체를 공급하며, 유체를 기판의 상부로 공급하는 상부 유체 공급부, 유체를 기판의 하부로 공급하는 하부 유체 공급부, 및 상부 유체 공급부 및 하부 유체 공급부 중 적어도 하나의 유체 공급부와 연결되는 공급 배관을 포함하는 유체 공급 유닛; 및 공급 배관에 설치되며, 공급 배관을 통과하는 유체에 대해 유동 저항을 발생시키는 유동 저항 발생 유닛을 포함하며, 유동 저항 발생 유닛은 공급 배관에 포함되는 곡관과 유체 공급부 사이에 마련된다.