임프린팅을 위한 다중-객체 정렬 관리

• Main Authors: PATTERSON ROY MATTHEW, XUE QIZHEN, SADAM SATISH, CARDEN CHARLES SCOTT, SEVIER JEREMY LEE, LUO KANG, IMHOF JOSEPH MICHAEL, BEST BRETT WILLIAM, WANG KANGKANG, SHAFRAN MATTHEW S, MILLER MICHAEL NEVIN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 07.04.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

임프린팅(예를 들어, 단면 또는 양면)에서 다중-객체 정렬들을 관리하기 위한 시스템들 및 방법들이 제공된다. 예시적인 시스템은 템플릿 롤을 이동시키기 위한 롤러들, 기판을 보유하기 위한 스테이지, 기판 상에 레지스트를 디스펜싱하기 위한 디스펜서, 템플릿 롤의 템플릿이 기판 상의 레지스트로 가압될 때 기판 상에 임프린트를 형성하기 위해 레지스트를 경화시키기 위한 광원, 템플릿 오프셋을 결정하기 위해 템플릿의 기준 마크를 정합하기 위한 제1 검사 시스템, 임프린트의 실제 위치와 타깃 위치 사이의 웨이퍼 정합 오프셋을 결정하기 위해 기판 상의 임프린트를 정합하기 위한 제2 검사 시스템, 및 템플릿 오프셋에 기초하여 템플릿 아래에 있도록 레지스트를 갖는 기판을 이동시키고 웨이퍼 정합 오프셋에 기초하여 기판 상의 임프린트의 오버레이 바이어스를 결정하기 위해 제어하기 위한 제어기를 포함한다. Systems and methods for managing multi-objective alignments in imprinting (e.g., single-sided or double-sided) are provided. An example system includes rollers for moving a template roll, a stage for holding a substrate, a dispenser for dispensing resist on the substrate, a light source for curing the resist to form an imprint on the substrate when a template of the template roll is pressed into the resist on the substrate, a first inspection system for registering a fiducial mark of the template to determine a template offset, a second inspection system for registering the imprint on the substrate to determine a wafer registration offset between a target location and an actual location of the imprint, and a controller for controlling to move the substrate with the resist below the template based on the template offset, and determine an overlay bias of the imprint on the substrate based on the wafer registration offset.