다수의 층들을 사용하는 재귀적 흐름 가스 분배 스택의 제조

• Main Authors: AGARWAL SUMIT, SUBRAMANI ANANTHA K, GUO YANG, CHANDRASEKAR SIVA
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 31.03.2023
• Subjects: CALCULATING; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS; COMPUTING; COUNTING; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; METALLURGY; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TESTING

방법은 복수의 금속 플레이트들과 연관되는 하나 이상의 파라미터들을 수신하는 것을 포함한다. 방법은, 하나 이상의 파라미터들에 기초하여, 복수의 금속 플레이트들과 연관되는 복수의 예측된 변형 값들을 결정하는 것을 더 포함한다. 복수의 예측된 변형 값들 각각은 복수의 금속 플레이트들 중 대응하는 금속 플레이트에 대응한다. 방법은, 본딩된 금속 플레이트 구조물을 생성하도록, 복수의 예측된 변형 값들에 기초하여, 복수의 금속 플레이트들이 확산 본딩되게 하는 것을 더 포함한다. A method includes receiving one or...