가스 공급 시스템 및 가스 공급 방법

• Main Authors: IKEDA NOBUKAZU, NISHINO KOUJI, MORISAKI KAZUYUKI, HIDAKA ATSUSHI, NAKATANI TAKATOSHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 29.03.2023
• Subjects: BLASTING; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED,LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; HEATING; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; STORING OF DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS; VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED ORSOLIDIFIED GASES; WEAPONS

가스 공급 시스템(100)은 히터를 갖는 제 1 기화부(12A)와, 제 1 밸브(14A)와, 제 1 기화부와 제 1 밸브 사이의 가스 압력을 측정하는 제 1 공급 압력 센서(16A)를 구비하는 제 1 기화 공급 장치(10A)와, 히터를 갖는 제 2 기화부(12B)와, 제 2 밸브(14B)와, 제 2 기화부와 제 2 밸브 사이의 가스 압력을 측정하는 제 2 공급 압력 센서(16B)를 구비하는 제 2 기화 공급 장치(10B)와, 제어 회로(20)를 구비하고 있으며, 제 1 밸브(14A)의 개방 기간과 제 2 밸브(14B)의 개방 기간을 시간적으로 어긋나도록 하고, 제 1 기화부(10A)로부터의 가스와 제 2 기화부(10B)로부터의 가스를 공통된 유로에 순차적으로 흘리도록 구성되어 있다. A gas supply system 100 comprises: a first vaporization supply device 10A including a first vaporization section 12A having a heater, a first valve 14A, and a first supply pressure sensor 16A for measuring a gas pressure between the first vaporization section and the first valve; a second vaporization supply device 10B including a second vaporization section 12B having a heater, a second valve 14B, and a second supply pressure sensor 16B for measuring a gas pressure between the second vaporization section and the second valve; and a control circuit 20. The system is configured to flow a gas from the first vaporization section 10A and a gas from the second vaporization section 10B sequentially into a common flow path, by shifting timings of an opening period of the first valve 14A and an opening period of the second valve 14B.