마스크리스 리소그래피 시스템들을 위한 프로세스, 시스템, 및 소프트웨어

• Main Authors: HUANG YUJIAO, GU ZHENG, GEORGE DEEPTHY M
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 27.03.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본원에서 제공된 시스템들, 방법들, 및 소프트웨어의 실시예들은 FPGA(field programmable gate array)들에 의해 제어되는 디지털 리소그래피 패터닝을 사용하여 기판들을 패터닝한다. 스테이지 포지션 데이터는 리소그래피 환경으로부터 FPGA로 제공되고 데이터는 FPGA로부터 메모리 내로 로딩된다. 그래픽 프로세싱 유닛은 메모리로부터 데이터를 판독하고, 데이터에 기반하여 명령들을 계산한다. 스테이지 상에 배치된 기판의 적어도 일부는 FPGA에 의해 제공되는 명령들을 사용하여 프로세싱된다. Embodiments of the systems, methods, and software provided herein patterns substrates using digital lithography patterning controlled by field programmable gate arrays (FPGA). Stage position data is provided to the FPGA from the lithography environment and the data is loaded into a memory from the FPGA. The graphics processing unit, reads the data from the memory and calculates instructions based on the data. At least a portion of a substrate disposed on the stage is processed using instructions provided by the FPGA.