Blankmask and Photomask for Flat Panel Display

• Main Authors: KIM DONG GEUN, KANG DONG SHIK, LEE JONG MIN, JEON YOUNG JO, GONG JONG GYU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 21.03.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

According to the present invention, a blank mask for a flat panel display includes a light shielding film and an anti-reflection film provided on a transparent substrate. The anti-reflection layer includes at least a flat reflectance layer and an anti-reflection layer which minimizes a difference in reflectance between exposure lights of complex wavelengths used in an exposure process. During a transfer process using a photomask, the anti-reflection film which minimizes reflectance deviation in a complex wavelength region and short wavelength region of exposure lights including I-line (365 ㎚), H-line (405 ㎚), and G-line (436 ㎚) is formed to reduce an intensity difference in each wavelength region caused by a reflected light from a surface of the photomask. Accordingly, deterioration of a pattern can be prevented to obtain a consistent pattern for each region. 본 발명에 따른 플랫 패널 디스플레이용 블랭크마스크는, 투명 기판 상에 구비된 차광막 및 반사방지막을 포함하며, 상기 반사방지막은 적어도 노광 공정에 사용되는 복합 파장의 노광광 사이의 반사율 차이를 최소화하는 평탄반사율층 및 반사방지층을 포함한다. 본 발명은 포토마스크를 이용한 전사 공정 시, I-line(365㎚), H-line(405㎚) 및 G-line(436㎚)을 포함하는 노광광의 복합 파장 영역 및 단파장 영역에서 반사율 편차를 최소화하는 반사방지막을 형성하여, 포토 마스크의 표면 반사광에 의한 파장 영역별 Intensity 차이를 감소시킴으로써 패턴이 열화 되는 것을 방지하여 할 수 있어 각 영역별로 일정한 패턴을 얻을 수 있다.