Method of inspecting samples with multiple beams of charged particles

하전 입자들을 방출하도록 구성된 소스, 광학 시스템, 및 스테이지를 포함하는 장치가 본 명세서에 개시되며; 스테이지는 그 위에 샘플을 지지하도록 구성되고 샘플을 제1 방향으로 제1 거리만큼 이동시키도록 구성되며; 광학 시스템은 하전 입자들로 샘플 상에 프로브 스폿들을 형성하도록 구성되고; 스테이지가 샘플을 제1 방향으로 제1 거리만큼 샘플을 이동시키는 동안, 동시에, 광학 시스템은 프로브 스폿들을 제1 방향으로 제1 거리만큼 및 제2 방향으로 제2 거리만큼 이동시키도록 구성되며; 스테이지가 샘플을 제1 방향으로 제1 거리만큼 이동시...

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Main Authors TSENG KUO FENG, WANG YIXIANG, CHEN ZHONGWEI, DONG ZHONGHUA
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 07.03.2023
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Summary:하전 입자들을 방출하도록 구성된 소스, 광학 시스템, 및 스테이지를 포함하는 장치가 본 명세서에 개시되며; 스테이지는 그 위에 샘플을 지지하도록 구성되고 샘플을 제1 방향으로 제1 거리만큼 이동시키도록 구성되며; 광학 시스템은 하전 입자들로 샘플 상에 프로브 스폿들을 형성하도록 구성되고; 스테이지가 샘플을 제1 방향으로 제1 거리만큼 샘플을 이동시키는 동안, 동시에, 광학 시스템은 프로브 스폿들을 제1 방향으로 제1 거리만큼 및 제2 방향으로 제2 거리만큼 이동시키도록 구성되며; 스테이지가 샘플을 제1 방향으로 제1 거리만큼 이동시킨 후에, 광학 시스템은 프로브 스폿들을 제1 방향의 반대 방향으로 제1 거리에서 프로브 스폿들 중 하나의 폭을 뺀 만큼 이동시키도록 구성된다. Disclosed herein is an apparatus comprising: a source configured to emit charged particles, an optical system and a stage; wherein the stage is configured to support a sample thereon and configured to move the sample by a first distance in a first direction; wherein the optical system is configured to form probe spots on the sample with the charged particles; wherein the optical system is configured to move the probe spots by the first distance in the first direction and by a second distance in a second direction, simultaneously, while the stage moves the sample by the first distance in the first direction; wherein the optical system is configured to move the probe spots by the first distance less a width of one of the probe spots in an opposite direction of the first direction, after the stage moves the sample by the first distance in the first direction.
Bibliography:Application Number: KR20237006796