급속 계측 회복을 위한 정밀 진공 윈도우 뷰포트 및 펠리클

• Main Authors: MCKENZIE PAUL ALEXANDER, SIMMONS RODNEY D, DONKER RILPHO LUDOVICUS, MITRY MARK JOSEPH, LI SHUQI, KAMBHAMPATI MURALI KRISHNA, URONE DUSTIN MICHAEL
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 07.03.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; X-RAY TECHNIQUE

극자외(EUV) 방사선 시스템에서의 광학 계측을 위한 시스템, 장치 및 방법이 제공된다. 예시적인 시스템은 계측 시스템과 윈도우를 포함한다. 예시적인 계측 시스템은 제1 환경에 배치되도록, 그리고 광학 축을 따라 제2 환경에서 영역의 하나 이상의 측정을 수행하도록 구성될 수 있다. 예시적인 윈도우는 광학 축과 교차하여 배치되도록, 그리고 계측 시스템을 제2 환경으로부터 격리시키도록 구성될 수 있다. 예시적인 윈도우는 광학 축으로부터의 횡방향 변위를, 방사선 컬렉터의 일차 초점에서 광학 축으로부터의 공칭 횡방향 변위로부터 약 ±50 미크론 미만으로 제한하도록 더 구성될 수 있다. Systems, apparatuses, and methods are provided for optical metrology in an extreme ultraviolet (EUV) radiation system. An example system can include a metrology system and a window. An example metrology system can be configured to be disposed in a first environment and to perform one or more measurements of a region in a second environment along an optical axis of the metrology system. An example window can be configured to be disposed intersecting the optical axis and to isolate the metrology system from the second environment. The example window can be further configured to limit a transverse displacement from the optical axis to less than about ± 50 microns from a nominal transverse displacement from the optical axis at a primary focus of a radiation collector.