MICROLITHOGRAPHIC FABRICATION OF STRUCTURES

본 발명은 기판 상에 형성되는 비대칭 구조물들 및 이러한 구조물들을 형성하기 위한 마이크로리소그래픽 방법들에 관한 것이다. 구조물들 각각은 제1 측면 및 제1 측면의 반대편에 있는 제2 측면을 갖는다. 제1 측면의 프로파일은 제2 측면의 프로파일에 대해 비대칭이다. 기판 상의 구조물들은 광학 디바이스를 위한 회절 패턴으로서 유용하다. Asymmetric structures formed on a substrate and microlithographic methods for forming such structures. Each of t...

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Main Author SINGH VIKRAMJIT
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 28.02.2023
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:본 발명은 기판 상에 형성되는 비대칭 구조물들 및 이러한 구조물들을 형성하기 위한 마이크로리소그래픽 방법들에 관한 것이다. 구조물들 각각은 제1 측면 및 제1 측면의 반대편에 있는 제2 측면을 갖는다. 제1 측면의 프로파일은 제2 측면의 프로파일에 대해 비대칭이다. 기판 상의 구조물들은 광학 디바이스를 위한 회절 패턴으로서 유용하다. Asymmetric structures formed on a substrate and microlithographic methods for forming such structures. Each of the structures has a first side surface and a second side surface, opposite the first side surface. A profile of the first side surface is asymmetric with respect to a profile of the second side surface. The structures on the substrate are useful as a diffraction pattern for an optical device.
Bibliography:Application Number: KR20237005128