강화된 전기 단자

전기 컨택트(10)는 결합 컨택트와 결합하기 위한 결합 부분(12)을 포함한다. 결합 부분(12)은 컨택트 부분(16) 및 유지 부분(32)을 갖는다. 결합 부분(12)은 결합 부분 하단 벽(18), 결합 부분 상단 벽(20) 및 결합 부분 측벽들(22, 24)을 갖는다. 각각의 결합 부분 측벽(22, 24)은 상단 벽(28)을 넘어 연장되는 상부 부분(26)을 갖는다. 유지 부분(32)은 유지 부분 상단 벽(28), 유지 부분 측벽(30) 및 유지 부분 배면 벽(50)을 갖는다. 유지 부분 배면 벽(50)은 결합 부분 상단 벽(2...

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Main Authors HETRICK RYAN DAVID, RAYBOLD CHRISTOPHER RYAN, KINSEY FORREST IRVING JR, MYER JOHN MARK
Format Patent
LanguageKorean
Published 28.02.2023
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Summary:전기 컨택트(10)는 결합 컨택트와 결합하기 위한 결합 부분(12)을 포함한다. 결합 부분(12)은 컨택트 부분(16) 및 유지 부분(32)을 갖는다. 결합 부분(12)은 결합 부분 하단 벽(18), 결합 부분 상단 벽(20) 및 결합 부분 측벽들(22, 24)을 갖는다. 각각의 결합 부분 측벽(22, 24)은 상단 벽(28)을 넘어 연장되는 상부 부분(26)을 갖는다. 유지 부분(32)은 유지 부분 상단 벽(28), 유지 부분 측벽(30) 및 유지 부분 배면 벽(50)을 갖는다. 유지 부분 배면 벽(50)은 결합 부분 상단 벽(20), 각각의 결합 부분 측벽(22, 24)의 상부 부분(26), 유지 부분 상단 벽(28) 및 유지 부분 측벽(30) 사이에 제공된 공간에 접근하도록 구성된다. 유지 부분 배면 벽(50)은 유지 부분(32)에 인가된 힘으로서 유지 부분(32)의 손상 또는 변형을 방지한다. An electrical contact a mating portion for mating with a mating contact. The mating portion has a contact portion and a retention portion. The mating portion has a mating portion bottom wall, a mating portion top wall and mating portion side walls. A respective mating portion side wall has an upper portion which extends beyond the top wall. The retention portion has a retention portion top wall, a retention portion side wall and a retention portion back wall. The retention portion back wall is configured to approximate the space provided between the mating portion top wall, the upper portion of the respective mating portion side wall, the retention portion top wall and a retention portion side wall. The retention portion back wall prevents damage or deformation of the retention portion as a force applied to the retention portion.
Bibliography:Application Number: KR20237002029