METHOD AND SYSTEM FOR THE REMOVAL AND/OR AVOIDANCE OF CONTAMINATION IN CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEMS

• Main Authors: LODEWIJK CHRIS FRANCISCUS JESSICA, KONING JOHAN JOOST, SMITS MARC, MOOK HINDRIK WILLEM, LATTARD LUDOVIC
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 27.02.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; TRANSPORTING

대전 입자 빔 시스템이 개시되고, 상기 대전 입자 빔 시스템은: - 대전 입자들의 빔을 발생시키기 위한 대전 입자 빔 발생기; - 진공 챔버에서 배열된 대전 입자 광학 컬럼 - 대전 입자 광학 컬럼은 타겟 상으로 대전 입자들의 빔을 투영하도록 배열되고, 대전 입자 광학 컬럼은 대전 입자들의 빔에 영향을 주기 위한 대전 입자 광학 엘리먼트를 포함함 -; 세정제를 제공하기 위한 공급원; - 공급원에 연결되고, 대전 입자 광학 엘리먼트쪽으로 세정제를 유입시키도록 배열된 도관을 포함하고; 대전 입자 광학 엘리먼트는: - 대전 입자들의 빔을 투과시키고 및/또는 대전 입자들의 빔에 영향을 주기 위한 대전 입자 투과 애퍼처, 및 - 대전 입자 광학 엘리먼트의 제 1 측면과 제 2 측면 사이에서 유동 경로를 제공하기 위한 적어도 하나의 통기 구멍을 포함하고, 통기 구멍은 대전 입자 투과 애퍼처의 단면보다 더 큰 단면을 가진다. 또한, 대전 입자 투과 애퍼처들에서의 오염을 방지하거나 제거하기 위한 방법이 개시되고, 상기 방법은 빔 발생기가 활성인 동안에 세정제를 유입시키는 단계를 포함한다. A charged particle beam system is disclosed, comprising:a charged particle beam generator for generating a beam of charged particles;a charged particle optical column arranged in a vacuum chamber, wherein the charged particle optical column is arranged for projecting the beam of charged particles onto a target, and wherein the charged particle optical column comprises a charged particle optical element for influencing the beam of charged particles;a source for providing a cleaning agent;a conduit connected to the source and arranged for introducing the cleaning agent towards the charged particle optical element;wherein the charged particle optical element comprises:a charged particle transmitting aperture for transmitting and/or influencing the beam of charged particles, andat least one vent hole for providing a flow path between a first side and a second side of the charged particle optical element,wherein the vent hole has a cross section which is larger than a cross section of the charged particle transmitting aperture.Further, a method for preventing or removing contamination in the charged particle transmitting apertures is disclosed, comprising the step of introducing the cleaning agent while the beam generator is active.