다중-층 EPI 챔버 본체

• Main Authors: YE ZHIYUAN, BURROWS BRIAN HAYES, LAU SHU KWAN, COLLINS RICHARD O
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 27.02.2023
• Subjects: AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMISTRY; CRYSTAL GROWTH; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; METALLURGY; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE; SINGLE-CRYSTAL-GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL

본원에서 개시되는 바와 같은 장치는 열 증착 챔버, 예컨대 에피택셜 증착 챔버 내에서의 사용을 위한 챔버 본체 설계에 관한 것이다. 챔버 본체는 세그먼트화된 챔버 본체 설계이며 주입 링 및 베이스 플레이트를 포함한다. 베이스 플레이트는 자신을 관통하여 배치되는 하나 이상의 배기 통로들 및 기판 이송 통로를 포함한다. 주입 링은 자신을 관통하여 배치되는 복수의 가스 주입 통로들을 포함한다. 주입 링은 베이스 플레이트 상단 상에서 배치되고 베이스 플레이트에 부착된다. 하나 이상의 배기 통로들 및 가스 주입 통로들은 서로 대향하여 배치된다. 베이스 플레이트 및 주입 링 둘 모두에서 하나 이상의 시일 밀봉 홈들이 형성되어, 주입 링 및 베이스 플레이트가 서로를 밀봉하는 것뿐만 아니라 프로세스 챔버 내의 다른 컴포넌트들을 밀봉하는 것을 가능하게 한다. An apparatus as disclosed herein relates to a chamber body design for use within a thermal deposition chamber, such as an epitaxial deposition chamber. The chamber body is a segmented chamber body design and includes an inject ring and a base plate. The base plate includes a substrate transfer passage and one or more exhaust passages disposed therethrough. The inject ring includes a plurality of gas inject passages disposed therethrough. The inject ring is disposed on top of the base plate and attached to the base plate. The one or more exhaust passages and the gas inject passages are disposed opposite one another. One or more seal scaling grooves are formed in both the base plate and the inject ring to enable the inject ring and the base plate to seal to one another as well as other components within the process chamber.