COMPOSITION FOR REMOVING EDGE BEAD FROM METAL CONTAINING RESISTS AND METHOD OF FORMING PATTERNS INCOUDING STEP OF REMOVING EDGE BEAD USING THE COMPOSITION
유기 용매, 그리고 AMW가 7 g/mol·개 이상인 화합물을 포함하는, 금속 함유 레지스트의 에지 비드 제거용 조성물, 및 이를 이용한 에지 비드 제거 단계를 포함하는 패턴 형성 방법을 제공한다.
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
17.02.2023
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Summary: | 유기 용매, 그리고 AMW가 7 g/mol·개 이상인 화합물을 포함하는, 금속 함유 레지스트의 에지 비드 제거용 조성물, 및 이를 이용한 에지 비드 제거 단계를 포함하는 패턴 형성 방법을 제공한다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20220060372 |