GAS CUSHION APPARATUS AND TECHNIQUES FOR SUBSTRATE COATING

• Main Authors: BUCHNER CHRISTOPHER, KO ALEXANDER SOU KANG, MAUCK JUSTIN, HARJEE NAHID, RABINOVICH EUGENE, LEWIS GREGORY, MADIGAN CONOR F, VRONSKY ELIYAHU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 17.01.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS; PRINTED CIRCUITS; SEMICONDUCTOR DEVICES

코팅은 기판 상에 제공될 수 있다. 코팅의 제조는 가스 쿠션을 사용하는 코팅 시스템에서 기판을 지지하는 동안 상기 기판의 소정의 영역에 고체층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 기판은 가스 쿠션에 의해 지지되는 동안 예를 들어, 액체 코팅 지정된 영역에 인쇄될 수 있다. 기판은 패턴이 액체를 인쇄한 후 소정의 지속 기간 동안 유지될 수 있다. 가스 쿠션을 사용하여 지지하면서 기판을 처리 영역으로 이송될 수 있다. 액체 코팅은 가스 쿠션을 이용하여 기판을 계속 지지하는 것을 포함하는 고체층을 제공하도록 처리될 수 있다. A coating can be provided on a substrate. Fabrication of the coating can include forming a solid layer in a specified region of the substrate while supporting the substrate in a coating system using a gas cushion. For example, a liquid coating can be printed over the specified region while the substrate is supported by the gas cushion. The substrate can be held for a specified duration after the printing the patterned liquid. The substrate can be conveyed to a treatment zone while supported using the gas cushion. The liquid coating can be treated to provide the solid layer including continuing to support the substrate using the gas cushion.