SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

• Main Authors: KOSAI KAZUKI, NAKASHOYA TAKAHITO, UDOU HIDEAKI, FUKUI SHOGO, OSADA SO, FUJIMOTO SEIYA, ANAMOTO ATSUSHI, TAKANAGA YUDAI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 06.01.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention provides a technology for suppressing an increase in particles. A substrate processing apparatus includes a tank, a circulation line, a branch line, a processing unit, a discharge unit, a supply unit, and a control unit. The control unit has a first determination unit, a first supplement control unit, a calculation unit, and a second supplement control unit. The first determination unit determines whether the storage capacity of a processing liquid in the tank is less than a lower limit value. The first supplement control unit supplements the tank with the processing liquid by the supply unit when the first determination unit determines that the storage capacity is less than the lower limit value. The calculation unit calculates a supplement amount of the processing liquid supplied in the tank per setting time by the supply unit. The second supplement control unit reduces the storage capacity of the tank by the discharge unit and supplements the tank with the processing liquid by the supply unit when a calculation value of the supplement amount calculated by the calculation unit is less than the setting value. 파티클의 증가를 억제하는 기술을 제공한다. 기판 처리 장치는, 탱크와, 순환 라인과, 분기 라인과, 처리부와, 배출부와, 공급부와, 제어부를 구비한다. 상기 제어부는, 제1 판정부와, 제1 보충 제어부와, 산출부와, 제2 보충 제어부를 갖는다. 상기 제1 판정부는, 상기 탱크 내의 상기 처리액의 저류량이 하한값 미만인지 여부를 판정한다. 상기 제1 보충 제어부는, 상기 저류량이 상기 하한값 미만이라고 상기 제1 판정부가 판정하는 경우, 상기 공급부에 의해 상기 탱크에 상기 처리액을 보충한다. 상기 산출부는, 상기 공급부에 의해 설정 시간당 상기 탱크에 상기 처리액을 보충하는 보충량을 산출한다. 상기 제2 보충 제어부는, 상기 산출부에 의해 산출하는 상기 보충량의 산출값이 설정값 미만인 경우, 상기 배출부에 의해 상기 탱크의 상기 저류량을 저감시키고, 상기 공급부에 의해 상기 탱크에 상기 처리액을 보충한다.