인쇄 점검 리피터 결함 검출

• Main Authors: PATWARY NURMOHAMMED, SHIFRIN EUGENE, LUO QING, SMITH JAMES A, YU LEON, YNZUNZA RAMON, COOK MICHAEL, SI WILSON WEI, CHEN HONG, WU KENONG, BRAUER BJORN, TROY NEIL, LI XIAOCHUN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 05.01.2023
• Subjects: CALCULATING; COMPUTING; COUNTING; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; TESTING

레티클 상의 결함을 검출하기 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 하나의 시스템은 레티클을 사용하는 리소그래피 프로세스에서 인쇄된 피처를 갖는 웨이퍼에 대해 수행되는 검사 프로세스 동안 프론트 엔드 처리에서 적어도 하나의 리피터 결함 검출 단계를 수행하도록 구성된 컴퓨터 서브시스템(들)을 포함한다. 프론트 엔드 처리에서 수행되는 적어도 하나의 리피터 결함 검출 단계는 이중 검출에 의해 2개 이상의 테스트 이미지에서 대응하는 위치에서 검출된 임의의 결함 및 제1 리피터 결함 후보로서, 적층된 결함 검출에 의해 검출된 임의의 결함을 식별하는 단계를 포함한다. 제1 리피터 결함 후보에 대해 하나 이상의 추가 리피터 결함 검출이 수행되어 최종 리피터 결함 후보를 생성하고 최종 리피터 결함 후보로부터 레티클 상의 결함을 식별할 수 있다. Systems and methods for detecting defects on a reticle are provided. One system includes computer subsystem(s) configured for performing at least one repeater defect detection step in front-end processing during an inspection process performed on a wafer having features printed in a lithography process using a reticle. The at least one repeater defect detection step performed in the front-end processing includes identifying any defects detected at corresponding locations in two or more test images by double detection and any defects detected by stacked defect detection as first repeater defect candidates. One or more additional repeater defect detections may be performed on the first repeater defect candidates to generate final repeater defect candidates and identify defects on the reticle from the final repeater defect candidates.