표준시료 및 그 제작방법

• Main Authors: OKU SATOSHI, KODAIRA AKIRA, MARUYAMA TAKASHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 05.01.2023
• Subjects: APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBEMICROSCOPY [SPM]; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

본 발명은, 결정이방성을 가지는 에칭처리에 의하여 기판(101)을 에칭하고, 기판(101)의 주표면에서 기판(101)의 내부에 걸쳐서 오목부(104)를 형성한다. 측면(105)은, 거의 (111)면이고, 에칭이 거의 진행되지 않는다. 이 결과, 오목부(104)는, 긴 방향에 수직인 단면의 형상이 직사각형이 된다. 마스크 패턴(102)의 개구(103)는, 평면시로 직사각형으로 되어 있으므로, 오목부(104)의 개구는, 평면시로 직사각형이 되고, 오목부(104)는, 예를 들어 직육면체 형상으로 형성된다. 오목부(104)는, 기판(101)의 주표면에 대하여 수직으로 된 1개의 평면을 형성하는 측면(105)을 구비하고, 측면(105)은 패싯면으로 되며, (111)면으로부터 경사진 경사면으로 되게 된다. A substrate (101) is etched by etching processing with crystal anisotropy, thereby forming a recess (104) from the main surface of the substrate (101) to the inside of the substrate (101). A side surface (105) is almost a (111) plane, and the etching hardly progresses. As a result, a cross section of the recess (104) perpendicular to the longitudinal direction has a rectangular shape. Since an opening (103) of a mask pattern (102) has a rectangular shape in a planar view, the opening of the recess (104) has a rectangular shape in a planar view, and the recess (104) is formed into, for example, a rectangular parallelepiped shape. The recess (104) includes a side surface (105) that forms one plane perpendicular to the main surface of the substrate (101). The side surface (105) is a facet surface and is a tilting surface tilted from the (111) plane.