적층 구조체를 생성하기 위한 프로세스

• Main Authors: DARRAS FRANCOIS XAVIER, GHYSELEN BRUNO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 28.11.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 리시버 기판 및 표면 필름을 포함하는 적층 구조체의 생성 프로세스에 관한 것으로, 생성 프로세스는: a) 각각 전면 및 후면을 갖는 캐리어 기판 및 초기 기판을 제공하는 단계, b) 상기 기판들 중 어느 하나의 전면을 통해 광 이온들을 주입함으로써 캐리어 기판 또는 초기 기판에 매립된 약화된 평면을 형성하는 단계, c) 각각의 전면들을 통해 캐리어 기판과 초기 기판을 접합하는 단계, d) 초기 기판으로부터 유래되고 캐리어 기판 상에 배열된 도너 층, 및 캐리어 기판 또는 도너 층에 존재하는 매립된 약화된 평면을 포함하는...