기판 위에 편석층을 제조하는 방법, 및 소자를 제조하는 방법

본 발명은 기판 위에 편석층을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 포토레지스트 층, 포토레지스트 패턴, 가공된 기판 및 소자를 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention pertains to a method of manufacturing segregated layers above a substrate. The invention also pertains to methods of manufacturing a photoresist layer, photoresist patterns, a processe...

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Bibliographic Details
Main Authors DAMMEL RALPH R, OCYTKO KORNEL, HUDSON DANIEL, MORSE GRAHAM, KUDO TAKANORI, WANG CHANGSHENG, JEFFERY BEN
Format Patent
LanguageKorean
Published 14.11.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:본 발명은 기판 위에 편석층을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 포토레지스트 층, 포토레지스트 패턴, 가공된 기판 및 소자를 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention pertains to a method of manufacturing segregated layers above a substrate. The invention also pertains to methods of manufacturing a photoresist layer, photoresist patterns, a processed substrate and a device.
Bibliography:Application Number: KR20227035156