기판 테이블 및 기판을 핸들링하는 방법

본 개시내용은 리소그래피를 위한 기판 테이블 및 기판을 핸들링하는 방법에 관한 것이다. 일 배치에서, 기판 테이블은 하나 이상의 멤브레인을 포함한다. 작동 시스템은 각각의 멤브레인을 변형시켜 멤브레인의 일부의 높이를 변화시킨다. 다른 배치에서, 기판 테이블은 하나 이상의 멤브레인 및 기판을 기판 테이블에 클램핑하기 위한 클램핑 시스템을 포함하고, 클램핑은 기판을 멤브레인에 대해 가압함으로써 각각의 멤브레인을 변형시킨다. The disclosure relates to substrate tables for lithography and...

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Bibliographic Details
Main Authors HABETS MICHEL BEN ISEL, WINKELS KOEN GERHARDUS, TEN KATE NICOLAAS
Format Patent
LanguageKorean
Published 25.10.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:본 개시내용은 리소그래피를 위한 기판 테이블 및 기판을 핸들링하는 방법에 관한 것이다. 일 배치에서, 기판 테이블은 하나 이상의 멤브레인을 포함한다. 작동 시스템은 각각의 멤브레인을 변형시켜 멤브레인의 일부의 높이를 변화시킨다. 다른 배치에서, 기판 테이블은 하나 이상의 멤브레인 및 기판을 기판 테이블에 클램핑하기 위한 클램핑 시스템을 포함하고, 클램핑은 기판을 멤브레인에 대해 가압함으로써 각각의 멤브레인을 변형시킨다. The disclosure relates to substrate tables for lithography and methods of handling a substrate. In one arrangement, a substrate table comprises one or more membranes. An actuation system deforms each membrane to change a height of a portion of the membrane. In another arrangement, a substrate table comprises one or more membranes and a clamping system for clamping a substrate to the substrate table, wherein the clamping deforms each membrane by pressing the substrate against the membrane.
Bibliography:Application Number: KR20227028699