POLYAMIC ACID POLYIMIDE AND ELEMENT FORMED THEREFROM

• Main Authors: LEE SHIH WEI, HUANG SHIH HUNG, SHIH TZU YUAN, YANG SHU MEI, LIN HSIAO CHU, FU CHUAN JEN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 24.10.2022
• Subjects: CHEMISTRY; COMPOSITIONS BASED THEREON; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

Provided is polyimide containing at least one repeating unit selected from groups consisting of general formulas M, N, and O. In the general formulas, X is a residue derived from TCA represented by the formula I. Y_1 is a residue derived from diamine having a cardo structure. Y_2 is a residue derived from diamine having a structure of a benzene ring, biphenyl, phenylbenzimidazole or phenylbenzoxazole. Y_3 is a residue derived from diamine having ether or ester group. 하기 일반식 M, N 및 O로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 반복 단위를 포함하는 폴리이미드가 제공된다: TIFFpat00072.tif38145 식 중, X는 하기 식 I로 표시되는 TCA로부터 유도된 잔기이다. Y1은 카르도 구조를 갖는 디아민으로부터 유도된 잔기이다. Y2는 벤젠 고리, 비페닐, 페닐벤즈이미다졸 또는 페닐벤족사졸의 구조를 갖는 디아민으로부터 유도된 잔기이다. Y3은 에테르 또는 에스테르기를 갖는 디아민으로부터 유도된 잔기이다. TIFFpat00073.tif2842