요오도플루오로카본 화합물을 포함하는 조성물

본 발명은 99.5 중량% 이상의 요오도플루오로카본 화합물 A 및 물, HF, HI, IF5, I2, O2, CO2, CO 및 질소로부터 선택된 최대 0.5 중량% 의 적어도 하나의 화합물 B 를 포함하는 조성물에 관한 것이며; 상기 요오도플루오로카본 화합물 A 는 화학식 (I) (R1)(R2)C(I)(R3) 또는 화학식 (II) (R1)(R2)C=C(I)(R3) 이고; 여기서 R1, R2 및 R3 은 서로 독립적으로 H, F, I, 적어도 하나의 불소 또는 요오드 원자로 임의로 치환된 C1-C10 알킬 라디칼, 적어도 하나의 불소...

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Main Author WENDLINGER LAURENT
Format Patent
LanguageKorean
Published 21.10.2022
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Summary:본 발명은 99.5 중량% 이상의 요오도플루오로카본 화합물 A 및 물, HF, HI, IF5, I2, O2, CO2, CO 및 질소로부터 선택된 최대 0.5 중량% 의 적어도 하나의 화합물 B 를 포함하는 조성물에 관한 것이며; 상기 요오도플루오로카본 화합물 A 는 화학식 (I) (R1)(R2)C(I)(R3) 또는 화학식 (II) (R1)(R2)C=C(I)(R3) 이고; 여기서 R1, R2 및 R3 은 서로 독립적으로 H, F, I, 적어도 하나의 불소 또는 요오드 원자로 임의로 치환된 C1-C10 알킬 라디칼, 적어도 하나의 불소 또는 요오드 원자로 임의로 치환된 C3-C10 시클로알킬 라디칼, 적어도 하나의 불소 또는 요오드 원자로 임의로 치환된 C2-C10 알케닐 라디칼, 적어도 하나의 불소 또는 요오드 원자로 임의로 치환된 C3-C10 시클로알케닐 라디칼, 및 적어도 하나의 불소 또는 요오드 원자로 임의로 치환된 C6-C10 아릴 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되고; 단, 치환기 R1, R2 또는 R3 중 적어도 하나는 F 이거나 적어도 하나의 불소 원자를 포함하는 상기 정의된 바와 같은 라디칼이고, 단 요오도플루오로카본 화합물 A 는 CF3I 가 아니다. A composition comprises at least 99.5% by weight of an iodofluorocarbon compound A and at most 0.5% by weight of a compound B selected from water, HF, HI, IF5, I2, O2, CO2, CO and nitrogen. The iodofluorocarbon compound A is of formula (I) (R1)(R2)C(I)(R3) or of formula (II) (R1)(R2)C═C(I)(R3); in which R1, R2 and R3 independently of one another are selected from the group consisting of H, F, I, a C1-C10 alkyl radical, a C3-C10 cycloalkyl radical, a C2-C10 alkenyl radical, a C3-C10 cycloalkenyl radical, and a C6-C10 aryl radical. All radicals are optionally substituted by a fluorine or iodine atom. At least one of the substituents R1, R2 or R3, is F or is a radical as defined above comprising at least one fluorine atom. The iodofluorocarbon compound A is not CF3I.
Bibliography:Application Number: KR20227031842